2014年第三届国际上海背光技术展览会

中国视听网资讯开展时间：2013-8-2 15:38:13　编辑：温情　[ 大中小 ]

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展览时间：2014年5月20日至22日

展会地点：上海世博展览馆（浦东新区国展路1099号）

主办单位：正亚展览机构

组织单位：上海富亚展览有限公司、广州正亚展览有限公司、台湾光电半导体产业协会

同期举办：第十届国际模切(上海)展览会

展会网址：www.fyexpo.com

[亚洲唯一背光技术展]　

亚洲唯一以“背光技术”为主题的展会，致力于提高背光模组、面板灯、超薄灯箱的制造技术。全面展示背光模组、面板灯、超薄灯箱的制造材料与技术设备。您不可错过的展会。

在显示技术不断进步的今天，背光技术的高性能(高亮度化、轻薄化、高效节能等)已成当今庞大显示行业主流应用技术。从大中小尺寸的显示产品如手机、PDA、数字相机(DSC)、车载显示器、液晶显示器、液晶电视等已普及应用，再到平板灯/面板灯行业的背光技术延伸应用，无不显现背光技术的魅力身影。

第三届国际背光技术(上海)展览会，简称「APFE2014上海展」，将于2014年5月20-22日在上海世博展览馆举办，是亚洲唯一背光技术展，将面向显示背光模组，面板灯等行业全方位面展示导光板、光学膜、光源、组装、检测及加工技术的专业大展，同期与“第十届国际模切展（全球最大）”隆重开展，涉及展览总规模达18,000平方米，700多家展商预计将有来自国内外超过20,000人次的专业观众到场参观。2014年5月的上海，我们盛情邀请您以参展、参观、采购、交流合作等各种形式来到[APFE2014]！

[展会背景]

上届「背光技术展」已于上海世博展览馆成功举办，成为全球首创的背光技术展，得到国内外背光技术领域品牌企业大力支持，如英国TEKNEK、特弘众普、德国亚德科、迎辉光电、凯鑫森、台湾郡威、台湾杨崎、HI-LAND、WELL、 SEKISUI、FUJI SHOKO、日本MEGARO、香港君凌、岱棱、三工光电、豪晶、博业、SYSCO、东芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、赛德、德龙、中电二所、福和达、富鑫林等上百家企业参展。大会共接待来自终端电子制造商、手机、电脑、家电、面板、背光模组、液晶显示模块、平板灯、模切材料供应商等近20,000名观众到场参观，成为光电显示行业设计开发、贸易合作、产品采购和技术交流的高效对接平台。